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Mandrin à vide en céramique poreuse de haute précision - Céramique JiFeng

Composants structurels en céramique/

Mandrin en céramique poreux en carbure de silicium

Carbure de silicium poreux (SiC) le mandrin en céramique est fabriqué à partir de poudre de haute pureté, par liaison réactionnelle ou moulage de gel.
Il a une porosité en quelque sorte contrôlée mais apporte toujours une forte conductivité thermique et une résilience mécanique, comme si c'était volontairement équilibré.
Ce mandrin à vide en céramique poreuse répond aux normes SEMI F47, pour outils à semi-conducteurs.
Idéal pour la manipulation des plaquettes, fabrication photovoltaïque, et traitement laser, cela aide à maintenir des résultats stables sans contamination, même lorsque la température est élevée et que les exigences de précision sont strictes.

  • Détails du produit
  • Spécifications techniques

Principaux avantages de Mandrin à vide en céramique poreuse

Résistance aux températures extrêmes

Température de travail à long terme 1600°C; choc thermique ΔT ≥ 500°C.

Adsorption microporeuse de précision

Porosité 30 à 70 %, taille des pores 1–50 μm; adsorption sous vide ≥ 0.08 MPa pour les plaquettes ultra fines.

Corrosion & résistance à l'usure

Résiste au pH 1-14 & érosion plasmatique; HV10 2 200–2 800; durée de vie 3× des mandrins en graphite.

Ultra-haute planéité

≤ 0.005 mm après meulage de précision.

Applications clés du mandrin à vide en céramique poreuse

1.Semi-conducteur & Électronique

  • Collage de plaquettes / collage temporaire: planéité ≤0,005 mm pour un amincissement de tranche de 12 pouces.
  • Gestion thermique de la lithographie: fluctuation de température ≤±0,1°C.

2.Photovoltaïque & Nouvelle énergie

  • Four de frittage de cellules solaires PERC/TOPCon: 1600°C, taux de casse ≤0,01%.
  • Plateau épitaxial SiC: impureté métallique ≤1 ppm pour MOCVD/MBE.

3.Laser & Usinage de précision

  • Mandrin de découpe laser haute puissance: résiste à l'ablation laser ≥1 kW/cm².
  • 3Substrat d'impression D: la ventilation poreuse réduit l'adhérence de la poudre.

4. Équipement industriel à haute température

  • Régleur de four de frittage: résistance au fluage, charge ≥50 kg/m² à 1600°C.
  • Appareil de brasage sous vide: résiste à la soudure Ag-Cu-Ti; réutilisable ≥1000 cycles.

Services de personnalisation de la céramique JiFeng

Structure des pores

uniforme / pente / canaux directionnels pour le contrôle du vide/gaz.

Traitement de surface

Revêtement CVD-SiC, revêtement anti-oxydation SiO₂/Al₂O₃.

Dimensions

diamètre φ100–φ600 mm, épaisseur 5–50 mm; rectangulaire / forme spéciale.

Avantage de coût

40–60% de moins que les marques importées.

ParamètreDétails
Pureté du matériauSiC≥99,5%, Si libre ≤0,5%
Porosité30%–70% (pores dégradés personnalisables)
Taille moyenne des pores1–50 μm (perçage au laser / agent porogène)
Conductivité thermique120 W/m·K (à 25°C)
Résistance à la flexion≥150 MPa (structure poreuse)
Platitude≤0,005 mm (rectifié avec précision)
CertificationsSEMI-F47 (semi-conducteur)

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