Miroir en carbure de silicium | Céramique optique de haute précision

Principaux avantages du miroir en carbure de silicium

CTE < 2×10⁻⁶/°C (20–400°C); déformation thermique uniquement 1/50 de miroirs en verre.

200 W/m·K, élimine l'effet de lentille thermique pour les lasers de classe kW.

Ra ≤ 0.5 nm après polissage; réflectivité > 99.5% @ 1064 nm (recouvert).

Densité 3.1 g/cm³; résistance à la flexion ≥ 400 MPa; rigidité spécifique (E/r) 4× celui de la silice fondue.

Radiation & résistant aux acides/alcalis; température de fonctionnement: -200°C à 1650°C.

1. Systèmes laser à haute énergie

Miroirs de focalisation découpés au laser, miroirs à cavité laser à fibre, miroirs laser ultrarapides.
Miroirs d'armes à énergie dirigée, miroirs de direction à faisceau de fusion laser.

2. Aérospatial & Astronomie

Miroirs primaires/secondaires du télescope spatial, imageurs multispectraux par satellite, lentilles infrarouges pour l'espace lointain.
Miroirs d'observatoire au sol, miroirs de communication laser par satellite.

3. Semi-conducteur & Fabrication de précision

Substrats miroir de lithographie EUV, miroirs interférométriques d'inspection de plaquettes.
Fenêtres de caméra infrarouge, miroirs de référence de métrologie de haute précision

4. Recherche & Environnements spéciaux

Miroirs de la ligne de lumière synchrotron, optique neutronique des réacteurs nucléaires, miroirs de surveillance industrielle à haute température.

CVD-SiC pour une ultra-précision de niveau EUV; RB‑SiC pour des structures légères à grande échelle et à faible coût.

Test de surface de l'interféromètre Zygo, analyse de rugosité avec un profileur de lumière blanche, test du seuil de dommage au laser (OIN 21254).

Asphérique, forme libre, miroirs microstructurés; intégration de l'assemblage de la couche de polissage et du blanc.

Conception optique, simulation thermique, surveillance des performances en orbite.

Paramètre	Détails
Type de matériau	SiC lié par réaction (RB-SiC), Dépôt chimique en phase vapeur SiC (CVD-SiC)
Diamètre du miroir	10–1500mm (standard); sur 2 m disponible pour la personnalisation
Précision des surfaces	l/20 @ 632.8 nm (RMS); λ/10 PV (qualité laser à haute énergie)
Rugosité de la surface	Ra ≤ 0.5 nm (après polissage & revêtement)
CTE (20–400°C)	1.5–4,2×10⁻⁶/°C (dépend du processus)
Options de revêtement	Au, Ag, diélectrique HR (1064 nm / 10.6 µm), revêtement résistant au laser (>10 kW/cm²)
Certifications	OIN 10110, MIL-PRF-13830, Faible dégazage de la NASA (ASTM E595)