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Siliziumkarbidspiegel | Hochpräzise optische Keramik

Keramische Strukturbauteile/

Siliziumkarbid (SiC) Spiegel

Siliziumkarbidspiegel

Die Siliziumkarbidspiegel sind äußerst effiziente optische Substrate, die durch Reaktionsbindungen hergestellt werden (RB-SiC) auch bekannt als chemische Gasphasenabscheidung (CVD-SiC).

Die Hauptmerkmale sind:

  • Wärmeausdehnung, die nahe Null liegt (1.5x10-6/GradC)
  • Extrem hohe Wärmeleitfähigkeit (200 W/m*K)
  • Rauheit der Oberfläche im Subnanometerbereich (Ra = 0.5 Millimeter)

Gebaut für die anspruchsvollsten Anwendungen wie Weltraumteleskope, Hochleistungslaser-Halbleiterlithographie, die Infrarotsysteme für optische, Sie bieten eine hervorragende Stabilität auch bei extremsten Temperaturen und Strahlung sowie mechanischen Belastungen. Ein hochmoderner Ersatz für Glas- und Metallspiegel sowie Glasspiegel, Unsere runden Siliziumkarbidspiegel bieten Zuverlässigkeit auch unter härtesten Bedingungen.

  • Produktdetails
  • Technische Spezifikationen

Kernvorteile des Siliziumkarbidspiegels

Extreme thermische Stabilität

CTE < 2×10⁻⁶/°C (20–400°C); Nur thermische Verformung 1/50 aus Glasspiegeln.

Ultrahohe Wärmeleitfähigkeit

200 W/m·K, eliminiert den thermischen Linseneffekt für Laser der kW-Klasse.

Ultrapräzise optische Oberfläche

Ra ≤ 0.5 nm nach dem Polieren; Reflexionsvermögen > 99.5% @ 1064 nm (beschichtet).

Leicht & hohe Steifigkeit

Dichte 3.1 g/cm³; Biegefestigkeit ≥ 400 MPa; spezifische Steifigkeit (E/r) 4× das von Quarzglas.

Volle Umweltbeständigkeit

Strahlung & Säure-/Laugenbeständig; Betriebstemp: -200°C bis 1650°C.

Anwendungen von Siliziumkarbidspiegeln

1. Hochenergie-Lasersysteme

  • Laserschneiden von Fokussierspiegeln, Hohlraumspiegel für Faserlaser, ultraschnelle Laser-Chirp-Spiegel.
  • Gerichtete Energiewaffenspiegel, Lenkspiegel für Laserfusionsstrahlen.

2. Luft- und Raumfahrt & Astronomie

  • Primär-/Sekundärspiegel eines Weltraumteleskops, Multispektrale Satellitenbildgeber, Infrarotlinsen für den Weltraum.
  • Spiegel von Bodenobservatorien, Satelliten-Laserkommunikationsspiegel.

3. Halbleiter & Präzisionsfertigung

  • EUV-Lithographie-Spiegelsubstrate, Interferometerspiegel für die Waferinspektion.
  • Infrarotkamerafenster, Hochpräzise Referenzspiegel für die Messtechnik

4. Forschung & Besondere Umgebungen

  • Synchrotron-Beamline-Spiegel, Neutronenoptik für Kernreaktoren, Hochtemperatur-Industrieüberwachungsspiegel.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden? Siliziumkarbidspiegel?

Führende Materialien & Prozesse

CVD-SiC für Ultrapräzision auf EUV-Niveau; RB-SiC für kostengünstige großflächige Leichtbaustrukturen.

Vollständige Qualitätskontrolle

Zygo-Interferometer-Oberflächenprüfung, Weißlicht-Profiler-Rauheitsanalyse, Prüfung der Laserzerstörschwelle (ISO 21254).

Anpassung aus einer Hand

Asphärisch, Freiform, Mikrostrukturierte Spiegel; Integration der Blank-Polier-Beschichtung-Baugruppe.

Weltweiter technischer Support

Optisches Design, thermische Simulation, Leistungsüberwachung im Orbit.

ParameterDetails
MaterialtypReaktionsgebundenes SiC (RB-SiC), Chemische Gasphasenabscheidung von SiC (CVD-SiC)
Spiegeldurchmesser10–1500 mm (Standard); über 2 m verfügbar für kundenspezifische
Oberflächengenauigkeitl/20 @ 632.8 nm (RMS); λ/10 PV (Hochenergie-Laserqualität)
OberflächenrauheitRa ≤ 0.5 nm (nach dem Polieren & Beschichtung)
CTE (20–400°C)1.5–4,2×10⁻⁶/°C (hängt vom Prozess ab)
BeschichtungsoptionenAu, Ag, dielektrische HR (1064 nm / 10.6 μm), Laserbeständige Beschichtung (>10 kW/cm²)
ZertifizierungenISO 10110, MIL-PRF-13830, NASA geringe Ausgasung (ASTM E595)

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